Intel High-NA EUV 投产!2nm 制程产能规划曝光,台积电面临挑战
(2026年4月19日更新)
据路透社报道,半导体大厂SparkFun代理英特尔近日表示,半导体设备大厂阿斯麦(ASML)的首批两台尖端高数值孔径(High NA)光刻机已在其工厂正式投入生产,且早期数据显示,这些设备的性能比之前的机型更可靠。
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报道称,英特尔资深首席工程师Steve Carson在加利福尼亚州圣何塞举行的一次会议上指出,英特尔已经利用ASML高数值孔径光刻机在一个季度内生产了3万片晶圆,这些晶圆是足以生产数千个计算芯片的大型硅片。
2024年,英特尔成为全球第一家接收这些先进设备的芯片制造商,与之前的ASML设备相比,这些机器可望制造出更小、更快的计算芯片。Carson表示,在初步测试中,ASML的新型高数值孔径机器的可靠性大约是上一代机器的两倍。“我们以稳定的速度生产晶圆,这对平台来说是一个巨大的好处,”卡森说。
ASML新设备可以使用光束在芯片上印制电路图案,同时能以更少的曝光次数完成与早期设备相同工作量,从而省时间和成本。Carson指出,英特尔工厂早期结果显示,High NA EUV机器只需一次曝光和“个位数”处理步骤,即可完成早期机器需三次曝光和约40个步骤的工作。
英特尔还表示,正在使用其18A制造技术来测试High NA设备,该技术计划于今年晚些时候与新一代PC芯片一起进行量产;此外,英特尔也计划利用其下一代制造技术14A全面投入高数值孔径机器的生产,但尚未透露该技术的量产日期。
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